[实用新型]一种双膜双腔零质量射流激励器有效
申请号: | 201620263029.3 | 申请日: | 2016-03-31 |
公开(公告)号: | CN205823803U | 公开(公告)日: | 2016-12-21 |
发明(设计)人: | 顾蕴松;王奇特;程克明;左伟;李强 | 申请(专利权)人: | 南京航空航天大学 |
主分类号: | F15D1/08 | 分类号: | F15D1/08;F15D1/00 |
代理公司: | 江苏圣典律师事务所32237 | 代理人: | 贺翔;刘辉 |
地址: | 210016 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开的一种双膜双腔零质量射流激励器,包括陀螺仪、微处理器以及头尖、导气管、两个腔体、激振器。双膜双腔零质量射流激励器内嵌飞行器头尖部,在进行尾旋控制时能量消耗小、响应快、便于工程化应用。 | ||
搜索关键词: | 一种 双膜双腔零 质量 射流 激励 | ||
【主权项】:
一种双膜双腔零质量射流激励器,其特征在于:包括头尖、导气管、互不相通的两个腔体、激振器;每个腔体均具有一大一小两端,头尖安装在腔体较小的一端,腔体较小的一端设置导气孔,导气管穿过腔体较小的一端的导气孔与头尖连接,导气管与头尖相连;两个激振器在腔体两侧圆形槽内安装,激振器的振动膜朝向内侧;激振器与腔体连接处密封不透气,形成密闭空间;腔体的两个出气孔分别与已密封的两个腔体连通。
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