[实用新型]一种降低暗电流的PN结结构及光电二极管、光电三极管有效

专利信息
申请号: 201620159022.7 申请日: 2016-02-26
公开(公告)号: CN205488152U 公开(公告)日: 2016-08-17
发明(设计)人: 樊子宇 申请(专利权)人: 深圳市乐夷微电子有限公司
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/102;H01L31/11
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518052 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型适用于集成电路领域,提供了一种降低暗电流的PN结结构及光电二极管、光电三极管,该PN结结构包括:衬底,在衬底上形成的阱,在阱中形成的NG注入区,以及在NG注入区形成的掺杂区;阱区和掺杂区分别为PN结结构的两极引出端。本实用新型在PN结结构中通过注入增加一个NG注入区,由于NG注入的浓度较低,因此NG和PWELL形成的PN结浓度较浅,从而降低了暗电流,同时提高了光电转换效率。
搜索关键词: 一种 降低 电流 pn 结构 光电二极管 光电 三极管
【主权项】:
一种降低暗电流的PN结结构,其特征在于,所述结构包括:衬底,在所述衬底上形成的阱,在所述阱中形成的NG注入区,以及在所述NG注入区形成的掺杂区;所述阱区和所述掺杂区分别为所述PN结结构的两极引出端。
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