[发明专利]一种晶体缺陷密度法检测冷轧金属板法向应变均匀性方法在审
申请号: | 201611272280.7 | 申请日: | 2016-12-28 |
公开(公告)号: | CN108254390A | 公开(公告)日: | 2018-07-06 |
发明(设计)人: | 陈明彪;李青山;刘文昌;杨庆祥;张勇 | 申请(专利权)人: | 青海大学 |
主分类号: | G01N23/00 | 分类号: | G01N23/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 810016 青海省西宁*** | 国省代码: | 青海;63 |
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摘要: | 一种晶体缺陷密度法检测冷轧金属板法向应变均匀性方法发明,用于检测冷轧金属材料板法向冷轧应变均匀性,其特殊之处是:使用正电子湮没谱线多普勒展宽法检测金属材料冷轧板试样表面至中心层的晶体缺陷密度值的均匀性后分析判断金属材料冷轧板试样法向表面至中心层的应变均匀性;按照一定步骤使用正电子湮没技术检测冷轧金属板试样法向表层至中心层的晶体缺陷密度均匀性,依据初始检测板面、1/4深度层检测板面,中心层检测板面的晶体缺陷密度检测值,根据金属材料冷轧应变量大小与应变后晶体缺陷密度值高低的对应关系,分析判断试样表层至中心层冷轧应变均匀性。较简单、成本较低、效率较高。 | ||
搜索关键词: | 晶体缺陷 均匀性 中心层 法向 冷轧 冷轧金属板 金属材料 密度法检测 分析判断 检测板 冷轧板 正电子湮没谱 金属材料板 密度均匀性 正电子湮没 初始检测 技术检测 密度检测 试样表层 试样表面 多普勒 深度层 应变量 检测 板面 | ||
【主权项】:
1.一种晶体缺陷密度法检测冷轧金属板法向应变均匀性方法,其特征是:通过使用正电子湮没技术的多普勒线形展宽谱仪及正电子湮没谱线多普勒增宽法,检测金属材料冷轧板试样表面至中心层的晶体缺陷密度值的均匀性,根据金属材料冷轧应变量大小与应变后晶体缺陷密度值高低的对应关系,分析判断金属材料冷轧板试样法向表面至中心层的应变均匀性:其包括步骤:(1)从金属材料冷轧板上切取板面晶体缺陷密度检测试板;(2)加工板面晶体缺陷密度检测试板,制作符合正电子湮没技术检测要求的板面晶体缺陷密度检测试样(简称试样);(3)使用正电子湮没技术检测试样法向表层至中心层的晶体缺陷密度均匀性:依次进行,分别加工试样的初始检测板面、1/4深度层检测板面、中心层检测板面至得到符合使用多普勒线形展宽谱仪及正电子湮没谱线多普勒增宽法检测要求并检测各检测表面的晶体缺陷密度;(4)依据得到的初始检测板面、1/4深度层检测板面、中心层检测板面的晶体缺陷密度检测值,根据金属材料冷轧应变量大小与应变后晶体缺陷密度值高低的对应关系,分析判断试样表层至中心层冷轧应变均匀性。
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