[发明专利]通过焦点补正量测高断差膜层间的堆叠精度方法在审
| 申请号： | 201611235710.8 | 申请日： | 2016-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN106483692A | 公开（公告）日： | 2017-03-08 |
| 发明（设计）人： | 龚成波 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所44265 | 代理人： | 林才桂,刘巍 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种通过焦点补正量测高断差膜层间的堆叠精度的方法。该方法包括步骤1、移动量测镜头，记录使量测镜头获得基准层测试图形清晰图像的焦点高度H1；步骤2、移动量测镜头，记录使量测镜头获得对位层测试图形清晰图像的焦点高度H2；步骤3、在焦点高度H1，量测系统自动记录基准层测试图形的大小和位置；步骤4、在焦点高度H2，量测系统自动记录对位层测试图形的大小和位置；步骤5、量测系统根据基准层测试图形与对位层测试图形的大小和位置关系计算堆叠精度。本发明通过焦点补正量测高断差膜层间的堆叠精度的方法能够快速量测高断差对位层和基准层之间的堆叠精度，整个量测过程能够自动化，适应自动化生产的需要。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 焦点 补正 测高 断差膜层间 堆叠 精度 方法 | ||
【主权项】：
一种通过焦点补正量测高断差膜层间的堆叠精度的方法，其特征在于，包括：步骤1、移动量测镜头，记录使量测镜头获得基准层测试图形清晰图像的焦点高度H1；步骤2、移动量测镜头，记录使量测镜头获得对位层测试图形清晰图像的焦点高度H2；步骤3、在焦点高度H1，量测系统自动记录基准层测试图形的大小和位置；步骤4、在焦点高度H2，量测系统自动记录对位层测试图形的大小和位置；步骤5、量测系统根据基准层测试图形与对位层测试图形的大小和位置关系计算堆叠精度。
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