[发明专利]微纳米结构光学元件及其制备方法与应用有效
| 申请号： | 201611217866.3 | 申请日： | 2016-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN108241185B | 公开（公告）日： | 2020-11-17 |
| 发明（设计）人： | 林引岳;楼成飞;张培俊;葛勤 | 申请（专利权）人： | 苏州纳邦光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/118 | 分类号： | G02B1/118;B82Y40/00;B82Y30/00 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 罗泳文 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市苏州工*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种微纳米结构光学元件及其制备方法与应用，该微纳米结构光学元件的特征是在透明刚性基底上形成倒锥形微纳米结构阵列，该微纳米结构光学元件不仅具有宽光谱广角减反射特性，还具有更高的机械强度。该微纳米结构光学元件还可与一层或多层不同光学折射率的材料结合，实现对入射光选择性的宽光谱广角减反射效果。本发明结合三维纳米结构的渐变折射率，倒锥形结构的机械稳定性，以及光学镀膜的光谱调控，可获得选择性的宽光谱广角减反射并具有更高机械强度的光学元件。本发明获得的新型光学元件在照明、显示、热电、光催化、光伏等领域具有广阔的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 结构 光学 元件 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一种微纳米结构光学元件，其特征在于，所述微纳米结构光学元件包括：透明刚性基底以及形成于所述透明刚性基底表面的倒锥形微纳米结构阵列，所述倒锥形微纳米结构阵列具有宽光谱广角增透减反射特性以及高机械强度。
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