[发明专利]一种基于光量子度量非均匀照射的二次光学透镜设计方法有效
| 申请号： | 201611186853.4 | 申请日： | 2016-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN106641793B | 公开（公告）日： | 2020-03-17 |
| 发明（设计）人： | 魏伟;胡学功 | 申请（专利权）人： | 中国科学院工程热物理研究所 |
| 主分类号： | F21K9/69 | 分类号： | F21K9/69;F21V5/04 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 任岩 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于光量子度量的二次光学透镜的设计方法，满足非均匀性光子照度需求，包括：将光源与被照射面划分网格，找到光源与被照射面之间的对应关系，计算得出自由曲面法向量，根据法向量方向构建自由曲面，并填充成为透镜，代入光学模拟软件，进行模拟计算，如果得到被照射面的光子照度非均匀度不能满足要求，重复以上步骤，并修改网格参数，直到被照射面的非均匀光子照度满足要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 光量子 度量 均匀 照射 二次 光学 透镜 设计 方法 | ||
【主权项】：
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