[发明专利]一种新型磺化聚砜复合纳滤膜及其制备方法在审
| 申请号： | 201611169870.7 | 申请日： | 2016-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN106731905A | 公开（公告）日： | 2017-05-31 |
| 发明（设计）人： | 陈亦力;张庆磊;李锁定;彭文娟;卞玲玲;汪洋;王欣彤 | 申请（专利权）人： | 北京碧水源膜科技有限公司 |
| 主分类号： | B01D71/68 | 分类号： | B01D71/68;B01D69/12;B01D67/00;B01D61/00 |
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| 地址： | 101407 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种新型磺化聚砜复合纳滤膜及其制备方法，复合纳滤膜包括无纺布、基膜和复合层，使用聚砜、添加剂以及溶剂配制铸膜液，涂覆层以磺化聚砜和樟脑磺酸作为原料，采用稀溶液浸渍涂敷法制备超薄功能层复合膜。无纺布厚度在60‑100μm之间，基膜厚度在30‑50μm之间，复合层厚度在300‑500nm之间；纳滤基膜的膜分离孔径在0.05‑0.5μm之间，复合膜的截留分子量在800‑1000Da之间。该制膜方法简单易行、绿色无污染，所得新型纳滤复合膜抗氧化能力强，操作压力低，水通量高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 新型 磺化 复合 滤膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种新型磺化聚砜复合纳滤膜，其特征在于，所述复合纳滤膜包括无纺布、基膜和涂覆层，其中：无纺布厚度在60‑100μm之间，基膜厚度在30‑50μm之间，复合层厚度在300‑500nm之间；所述基膜的分离孔径在0.05‑0.5μm之间；所述复合膜的截留分子量在800‑1000Da之间。
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