[发明专利]高轨SAR垂直向非均匀植被冠层后向散射系数模拟方法

摘要

本发明是有关于一种高轨SAR垂直向非均匀植被冠层后向散射系数模拟方法，包括以下步骤：确定植被冠层组件的种类；确定各种类植被冠层组件体密度的垂直向分布函数；计算双矩阵算法中的薄层后向散射矩阵；计算植被冠层的后向散射系数。本发明将植被冠层组件体密度垂直向分布函数引入双矩阵算法进行后向散射系数模拟，为模拟植被冠层垂直向非均匀性对后向散射系数造成的影响研究提供了途径，尤其适用于高轨SAR观测。

主权项

1.一种高轨SAR垂直向非均匀植被冠层后向散射系数模拟方法，其特征在于包括以下步骤：确定植被冠层组件的种类；确定各种类植被冠层组件体密度的垂直向分布函数N_j(h)；计算双矩阵算法中的薄层后向散射矩阵S与前向散射矩阵T；计算植被冠层的后向散射系数；其中，双矩阵算法中的薄层后向散射矩阵S与前向散射矩阵T的计算公式为：式中：θ_i为入射角；θ_s为散射角；为入射方位角；为散射方位角；U^‑1为对角阵，元素为散射方向的余弦；P为双站散射相矩阵；h为植被冠层组件在冠层中的位置；Δz为每一薄层厚度；N为单位薄层体积内的植被冠层组件密度；n为植被冠层组件的种类个数，j表示第j类植被冠层组件。