[发明专利]具有原位清洁能力的旋转卡盘有效
申请号: | 201611097164.6 | 申请日: | 2016-12-02 |
公开(公告)号: | CN107017195B | 公开(公告)日: | 2020-07-31 |
发明(设计)人: | 安德烈亚斯·格雷森纳;彼得·斯特鲁茨曼恩 | 申请(专利权)人: | 朗姆研究公司 |
主分类号: | H01L21/687 | 分类号: | H01L21/687;B08B3/02 |
代理公司: | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人: | 李献忠;张静 |
地址: | 奥地利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及具有原位清洁能力的旋转卡盘。在用于处理晶片状物品的方法和装置中,旋转卡盘定位在处理室内部。所述旋转卡盘被配置成将晶片状物品保持在预定处理位置。盖覆盖所述旋转卡盘并且固定到所述旋转卡盘或与所述旋转卡盘成一体以与其一起旋转。所述盖具有中心开口。固定喷嘴组件延伸到处理室中,使得所述固定喷嘴组件的排放端穿过所述盖的所述中心开口。所述喷嘴组件包括冲洗喷嘴,所述冲洗喷嘴被配置成将冲洗液体从所述喷嘴组件径向向外引导到所述盖的面向下方的表面上。 | ||
搜索关键词: | 具有 原位 清洁 能力 旋转 卡盘 | ||
【主权项】:
一种用于处理晶片状物品的装置,其包括:处理室;位于所述处理室内的旋转卡盘,所述旋转卡盘被配置为将晶片状物品保持在预定处理位置;覆盖所述旋转卡盘并且固定到所述旋转卡盘或与所述旋转卡盘一体形成以与其一起旋转的盖,所述盖具有中心开口;以及固定喷嘴组件,其延伸到所述处理室中,使得所述固定喷嘴组件的排放端穿过所述盖的所述中心开口;所述喷嘴组件包括冲洗喷嘴,所述冲洗喷嘴被配置成将冲洗液体从所述喷嘴组件径向向外引导至所述盖的面向下方的表面上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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