[发明专利]基于MIFT与QP算法相结合的平面阵列天线方向图综合方法在审

专利信息
申请号: 201611094765.1 申请日: 2016-12-02
公开(公告)号: CN106777601A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 祁峥东;丛友记;孔玥;刘建东 申请(专利权)人: 中国船舶重工集团公司第七二四研究所
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 210003 *** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种基于MIFT与QP算法相结合的平面阵列天线方向图综合方法,采用了改进的迭代傅里叶变换法(MIFT)与二次规划(QP)算法相结合的混合优化算法对平面阵列天线进行方向图综合设计,将MIFT迭代结果作为QP算法的初值,最终将方向图优化问题变为一步求解的凸优化问题,使综合设计更简洁。本发明集合传统迭代傅里叶算法和凸优化问题建模解算的优点,具有计算速度快、精度高,无需参数调节,且适用于任意阵列分布的优点。
搜索关键词: 基于 mift qp 算法 相结合 平面 阵列 天线方向图 综合 方法
【主权项】:
一种基于MIFT与QP算法相结合的平面阵列天线方向图综合方法,其特征在于:包括以下步骤:第一步:确定二维阵列天线方向图如下:AF(u,v)=Σm=0M-1Σn=0N-1wmnejk(mdxu+mdyv)---(1);]]>其中矩形栅格平面阵列由M×N个单元组成,其中M、N均为偶数;wmn为第(m,n)个单元的激励复值,并将阵因子区域分成四个对称象;第二步:选择相位激励初值,所有单元初值选为电流为1,相位的为0的幅相激励,利用二维离散傅里叶逆变换得出阵列方向图因子AF,其中AF取阵列方向图计算点数K×K,且K=Zn>max(M,N),n为正整数;第三步:把阵因子AF(u,v)归一化后分解成幅度|AF(u,v)|和相位Ψ(u,v),针对主瓣区域内超出波纹或者副瓣区域内超出最大值SLL的|AF(u,v)|,采取直接用期望值代替原来位置上的值,Ψ(u,v)得以保留,形成新的AF(u,v)new,公式如下:AF(u,v)new=|AF(u,v)new|×ejΨ(u,v)   (2);第四步:将AF(u,v)new应用二维快速傅里叶变换反算出新的单元激励,如考虑面阵激励以中心为对称情况,则保留(M×N)/4个激励值,所有单元激励利用如下公式求得:[|w(0,0)|,...|w(M/2-1,N/2-1)|]=[|w(0,N-1)|,...|w(M/2-1,N/2)|]=[|w(M-1,0)|,...|w(M/2,N/2-1)|]=[|w(M-1,N-1)|,...|w(M/2,N/2)|]---(3);]]>如考虑单元损坏的情况,则损坏单元的激励被赋值为0,形成新的阵列激励矩阵wfft;第五步:把主副瓣区域内的|AF(u,v)|值与期望阵因子的值进行比较,若|AF(u,v)|不满足的点数为零或迭代次数达到了最大值,进行下一步操作,否则重复1‑4步骤;第六步:将平面阵列天线方向图综合问题转化成如下二次规划问题;minϵwundermaxk=1,...,K||skHw|2-dk|≤ϵ|sqHw|2≤ρq,forq=1,...Q---(4);]]>其中Sk和Sq分别对应方向图主瓣和副瓣区域内的阵列导向矢量,ε为波纹设定值,ρq为副瓣阈值,公式(4)中的副瓣限制条件为凸优化问题,利用现有工具易于求解,主瓣波纹限制条件非凸问题,无法求解,因此做如下变更:maxk=1,...,K|wHskskHw-dk|≤ϵ---(5);]]>或者:maxl=1,...,K|wlHskskHw-dk|≤ϵwithwl=wr---(6);]]>第七步:将公式(6)中的wl利用第四步求得的wfft进行替换,则主瓣波纹限制问题变成了凸优化问题,为保证w值与wfft近似以保证上述公式(6‑7)的正确性,定义激励矩阵wfft中前30%左右最大值直接赋予待求矩阵w相同位置处,求解过程利用公开CVX软件。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国船舶重工集团公司第七二四研究所,未经中国船舶重工集团公司第七二四研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201611094765.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top