[发明专利]OLED掩模板的制作方法有效

专利信息
申请号: 201611074695.3 申请日: 2016-11-29
公开(公告)号: CN106410064B 公开(公告)日: 2018-05-25
发明(设计)人: 蒋谦;陈永胜 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L27/32;C23C14/04;C23C14/22
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;熊永强
地址: 430070 湖北省武汉市武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种OLED掩模板的制作方法,通过现有掩模板制作方法得到所述掩模母板作为媒介,并结合电铸工艺,能够大量制得具有良好实际应用效果的OLED掩模板,为OLED掩模板的制作提供了一种新的方式,且降低生产成本。并且本发明中所述OLED掩模板的制造过程中不需要用到曝光机及光罩,能够简化生产设备及生产工艺,从而进一步的降低生产制作成本,具有良好的实际应用效果。
搜索关键词: 掩模板 制作 应用效果 简化生产设备 电铸工艺 降低生产 掩模母板 制造过程 曝光机 光罩 生产工艺 媒介
【主权项】:
1.一种OLED掩模板的制作方法,其特征在于,所述OLED掩模板的制作方法包括:提供一基板;在所述基板上依次形成第一缓冲层、第一金属层和第二缓冲层,所述第二缓冲层为导电缓冲层;通过一掩模母板在所述第二缓冲层上沉积一绝缘层,所述绝缘层的形状与所述掩模母板上的镂空图案相同;所述掩模母板为数条具有图案的金属薄片固定到一金属框架上形成,位于所述金属框架上两端的金属薄片的厚度大于或者等于位于所述金属框架两端的金属薄片之间的金属薄片的厚度;在所述绝缘层上形成第二金属层,以将所述掩模母板图案转移至所述第二金属层;剥离所述绝缘层,以露出第二金属层的图案;将所述第二金属层切割,使所述第二金属层的图案分离并形成数个子金属层;剥离切割后的所述子金属层,使子金属层与所述第二缓冲层分离;将所述数个子金属层进行张网形成OLED掩模板。
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