[发明专利]成像光学系统有效
| 申请号： | 201611027506.7 | 申请日： | 2011-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN106873135B | 公开（公告）日： | 2020-04-14 |
| 发明（设计）人： | H-J.曼恩 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G02B13/08 | 分类号： | G02B13/08;G02B17/06;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于投射曝光系统的成像光学系统(9)，其具有至少一个变形成像光学元件(M1至M6)。这允许以第一方向上的大物方数值孔径在该方向上完全照明像场，而不必扩大要被成像的掩模母版的范围，并且不减小投射曝光系统的生产能力。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 光学系统 | ||
【主权项】：
一种成像光学系统(9)，包含：变形成像投射镜系统(26、27)，其包括至少四个反射镜，其中：所述变形成像投射镜系统(26、27)具有第一方向上的第一成像比例和第二方向上的第二成像比例，所述第二方向与所述第一方向垂直；其中，所述第二成像比例与所述第一成像比例的比率为至少4∶3；其中，所述成像光学系统(9)为微光刻成像光学系统；以及其中，所述成像光学系统(9)具有至少0.4的像方数值孔径。
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