[发明专利]在修复周期期间保护特征的方法在审
| 申请号： | 201611015782.1 | 申请日： | 2016-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN107032829A | 公开（公告）日： | 2017-08-11 |
| 发明（设计）人： | J.H.韦弗;G.S.科曼;A.克贝德;D.G.邓;J.G.马南特 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | C04B41/85 | 分类号： | C04B41/85;C04B41/87 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 严志军,李强 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及在修复周期期间保护特征的方法。具体而言，一种方法可包括将掩模应用至CMC结构，以及使具有应用的掩模的结构经历修复过程。在一个实施例中，将掩模应用至CMC结构可包括将掩模应用至CMC结构的特征。 | ||
| 搜索关键词： | 修复 周期 期间 保护 特征 方法 | ||
【主权项】：
一种方法，包括：将掩模应用至陶瓷基质复合物(CMC)结构；以及使具有所述掩模的所述结构经历修复过程。
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