[发明专利]一种磁流变双面抛光装置

摘要

本发明提供了一种磁流变双面抛光装置，利用以剪切形式为主要材料去除方式的磁流变进行双面抛光，消除了被抛光表面的表面及亚表面损伤，提高了被抛光表面的粗糙度及光洁度；本发明可以通过提高磁流变液的运输速度，即通过提高磁流变液的流量及主动轮的转速，显著提高抛光效率；可以通过减小运输带与被抛光表面之间的距离而提高抛光效率；可以通过增加喷嘴数量显著提高抛光效率。本发明通过改变磁场作用区域尺寸与形状、磁流变液运输带尺寸和磁流变液运输速度等可以适应不同口径平面或曲面元件的双面抛光，尤其适合大口径元件双面抛光。本发明的装置可以并联组合，实现高效率大规模生产。

主权项

一种磁流变双面抛光装置，其特征在于，包括磁流变液供给回收机构以及两个磁流变抛光机构，每个磁流变抛光机构均包括固定板、主动轮、运输带以及磁盒；所述主动轮安装在固定板的一端，磁盒固定安装在固定板的另一端；运输带套装在两个主动轮以及磁盒的外轮廓上；两个磁流变抛光机构中的磁盒靠近布置，待抛光元件置于两个磁盒之间；磁流变液供给回收机构包括喷嘴、回收盒、喷出泵以及回收泵；每个运输带至少配置一个所述喷嘴和一个回收盒，喷嘴设置在磁盒的端部位置，并位于运输带运动的起始方向的一端；回收盒设置在主动轮外侧；喷出泵向喷嘴提供磁流变液，回收泵通过回收盒回收磁流变液；所述磁盒中设置工作磁铁，用于产生磁流变液产生流变的磁场。