[发明专利]光罩检测装置及其方法有效
申请号: | 201610963968.3 | 申请日: | 2016-10-28 |
公开(公告)号: | CN106980226B | 公开(公告)日: | 2020-08-07 |
发明(设计)人: | 黄彦铭 | 申请(专利权)人: | 艾斯迈科技股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/84 | 分类号: | G03F1/84 |
代理公司: | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 朱成之 |
地址: | 中国台湾新北*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明公开了一种光罩检测装置,包含装置本体、承载模块、第一摄像模块及控制模块。装置本体的一面可活动地设有旋转位移单元,旋转位移单元的一面设有发光件。承载模块悬设在旋转位移单元的一面,承载模块相对旋转位移单元的一面可活动地承载检测物,并且,承载模块本体具有开口。第一摄像模块悬设在装置本体的一面。控制模块电耦接旋转位移单元及第一摄像模块。 | ||
搜索关键词: | 检测 装置 及其 方法 | ||
【主权项】:
一种光罩检测装置,其特征在于,所述的光罩检测装置包含:装置本体,所述的装置本体的一面可活动地设有旋转位移单元,所述的旋转位移单元的一面设有发光件;承载模块,悬设在所述的旋转位移单元的一面,所述的承载模块相对所述的旋转位移单元的一面可活动地承载检测物,且所述的承载模块本体具有开口;第一摄像模块,悬设在所述的装置本体的所述的一面;以及控制模块,电耦接所述的旋转位移单元及所述的第一摄像模块,所述的控制模块接收并依据校正检测信号,以控制所述的第一摄像模块获取所述的检测物的影像而产生待校正影像,并且,所述的控制模块接收并判断所述的待校正影像不符合预设校正影像时,所述的控制模块则控制所述的旋转位移单元以水平旋转方式调整所述的承载模块的水平位置及旋转角度,进而调整所述的检测物的水平位置,而在所述的控制模块判断所述的待校正影像符合所述的预设校正影像时,所述的控制模块则控制所述的发光件透过所述的开口朝所述的检测物照射第一光源,并控制所述的第一摄像模块获取所述的检测物的一光罩区的影像而产生光罩检测影像,并且,所述的控制模块接收并判断所述的光罩检测影像的二维图像,以取得光罩检测信息,并检测所述的光罩检测影像中的异常图示而产生光罩异常信息。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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