[发明专利]一种硅基APD的集成电路有效

专利信息
申请号: 201610957294.6 申请日: 2016-10-27
公开(公告)号: CN106571375B 公开(公告)日: 2019-02-05
发明(设计)人: 谢峰;吴浩然;周东;陆海 申请(专利权)人: 南京紫科光电科技有限公司
主分类号: H01L27/144 分类号: H01L27/144
代理公司: 合肥中谷知识产权代理事务所(普通合伙) 34146 代理人: 洪玲
地址: 210000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种硅基APD的集成电路,属于光电集成技术领域,它包括衬底、硅基雪崩光电二极管、光伏二极管阵列、双极型NPN三极管和其它由电阻电容构成的管理电路,在所述的衬底上设有数组V型槽,所述的硅基雪崩光电二极管、光伏二极管阵列和双极型NPN三极管分别设在一个V型槽内、并与管理电路集成于同一衬底上。该集成电路结合了传统的V型槽工艺和双极工艺,电路结构简单,可靠性高,串扰小,功耗低。
搜索关键词: 一种 apd 集成电路
【主权项】:
1.一种硅基APD的集成电路,其特征在于:它包括衬底(1)、硅基雪崩光电二极管(2)、光伏二极管阵列(3)、双极型NPN三极管(4)和其它由电阻电容构成的管理电路(5),在所述的衬底(1)上设有数组V型槽(100),所述的硅基雪崩光电二极管(2)、光伏二极管阵列(3)和双极型NPN三极管(4)分别设在一个V型槽(100)内、并与管理电路(5)集成于同一衬底(1)上;设有所述硅基雪崩光电二极管(2)的V型槽(100)中有低掺杂P层(200)、高掺杂P+层(201)、高掺杂N+层(202)和低掺杂N‑外延层(203);设有所述光伏二极管阵列(3)的V型槽(100)内有低掺杂P层(300)、高掺杂P+层(301)、高掺杂N+层(302)、低掺杂N‑外延层(303)和较高掺杂P阱(304);设有所述NPN三极管(4)的V型槽100中有低掺杂P层(400)、高掺杂P+层(401)、高掺杂N+层(402)、低掺杂N‑外延层(403)和较高掺杂P层(404),其中,所述的高掺杂N+层(402)为两组。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京紫科光电科技有限公司,未经南京紫科光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610957294.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top