[发明专利]一种硅基APD的集成电路有效
申请号: | 201610957294.6 | 申请日: | 2016-10-27 |
公开(公告)号: | CN106571375B | 公开(公告)日: | 2019-02-05 |
发明(设计)人: | 谢峰;吴浩然;周东;陆海 | 申请(专利权)人: | 南京紫科光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/144 | 分类号: | H01L27/144 |
代理公司: | 合肥中谷知识产权代理事务所(普通合伙) 34146 | 代理人: | 洪玲 |
地址: | 210000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种硅基APD的集成电路,属于光电集成技术领域,它包括衬底、硅基雪崩光电二极管、光伏二极管阵列、双极型NPN三极管和其它由电阻电容构成的管理电路,在所述的衬底上设有数组V型槽,所述的硅基雪崩光电二极管、光伏二极管阵列和双极型NPN三极管分别设在一个V型槽内、并与管理电路集成于同一衬底上。该集成电路结合了传统的V型槽工艺和双极工艺,电路结构简单,可靠性高,串扰小,功耗低。 | ||
搜索关键词: | 一种 apd 集成电路 | ||
【主权项】:
1.一种硅基APD的集成电路,其特征在于:它包括衬底(1)、硅基雪崩光电二极管(2)、光伏二极管阵列(3)、双极型NPN三极管(4)和其它由电阻电容构成的管理电路(5),在所述的衬底(1)上设有数组V型槽(100),所述的硅基雪崩光电二极管(2)、光伏二极管阵列(3)和双极型NPN三极管(4)分别设在一个V型槽(100)内、并与管理电路(5)集成于同一衬底(1)上;设有所述硅基雪崩光电二极管(2)的V型槽(100)中有低掺杂P层(200)、高掺杂P+层(201)、高掺杂N+层(202)和低掺杂N‑外延层(203);设有所述光伏二极管阵列(3)的V型槽(100)内有低掺杂P层(300)、高掺杂P+层(301)、高掺杂N+层(302)、低掺杂N‑外延层(303)和较高掺杂P阱(304);设有所述NPN三极管(4)的V型槽100中有低掺杂P层(400)、高掺杂P+层(401)、高掺杂N+层(402)、低掺杂N‑外延层(403)和较高掺杂P层(404),其中,所述的高掺杂N+层(402)为两组。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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