[发明专利]一种秋石斛花期调控方法有效

专利信息
申请号: 201610942799.5 申请日: 2016-10-26
公开(公告)号: CN106613114B 公开(公告)日: 2019-12-13
发明(设计)人: 廖易;张东雪;陆顺教;李崇晖;杨光穗;王存 申请(专利权)人: 中国热带农业科学院热带作物品种资源研究所
主分类号: A01G22/63 分类号: A01G22/63;A01C21/00;A01G7/06
代理公司: 46001 海口翔翔专利事务有限公司 代理人: 莫臻
地址: 57173*** 国省代码: 海南;46
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摘要: 发明涉及一种秋石斛花期调控方法,是在幼苗定植后6个月内每月施氮磷钾均衡肥和高钾肥,保湿、控温,控制光强度;待小苗定植至7~8个月,每月施氮磷钾均衡肥和高钾肥,每天早晚喷雾1次,光照强度控制在7~9万lux;待小苗定植至9~10个月,每月施氮磷钾均衡肥和高磷肥,每天早晚喷雾1次,光照强度控制在7~9万lux;在秋石斛目标花期前60天,采用6‑苄氨基嘌呤对秋石斛大苗进行催花处理。本发明采用肥料管理结合植物生长调节剂催花,解决了秋石斛花期与市场需求相矛盾的问题,有利于推动热带兰花中的秋石斛规模化的生产,对于热带兰花产业以及科研工作的发展都具有可持续性发展意义。
搜索关键词: 一种 石斛 花期 调控 方法
【主权项】:
1.一种秋石斛花期调控方法,其特征在于,其具体步骤如下:/n1)、小苗管理阶段/n从苗圃中选取长势良好、健壮的组培幼苗于10月份移栽到花盆中,定植后6个月内为小苗管理阶段,植株指标:株高小于10cm、具有1~2个假鳞茎;小苗管理阶段每月施肥3~4次,浓度为0.1%,pH6.5~7.0,施肥方式为叶面喷施并结合灌根,灌根的施肥量为肥液渗透栽培基质、刚好从底部滴出;肥料为氮磷钾均衡肥,即肥料中的氮、磷、钾的比例为N:P
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