[发明专利]一种SOI基微惯性传感器封装应力隔离方法有效

专利信息
申请号: 201610919522.0 申请日: 2016-10-21
公开(公告)号: CN107055461B 公开(公告)日: 2018-12-18
发明(设计)人: 苑伟政;郝永存;谢建兵;常洪龙 申请(专利权)人: 西北工业大学
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00
代理公司: 西北工业大学专利中心 61204 代理人: 吕湘连
地址: 710072 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种SOI基微惯性传感器封装应力隔离方法,属于微机电系统领域。该方法通过一种位于基底层(3)上的应力隔离结构实现,所述应力隔离结构形式为:基底(3)为一镂空结构,其包括外围的用于固定敏感结构层(1)的框架(4)、处于芯片中心的圆柱(6),以及连接框架(4)和圆柱(6)的弹性梁(5);整个SOI基微惯性传感器仅通过所述圆柱(6)的底面(9)涂胶与管壳粘接。有益效果:圆柱(6)的底面(9)比芯片敏感结构层(1)面积小,因此减小了传感器的粘接面积,降低了封装应力;弹性梁(5)使由圆柱(6)传递至陀螺结构层(1)的应力进一步降低,起到应力隔离作用,同时该应力隔离结构对芯片敏感结构不产生影响,降低芯片敏感结构设计难度。
搜索关键词: 敏感结构 应力隔离 微惯性传感器 封装应力 芯片 弹性梁 底面 粘接 微机电系统领域 隔离 结构实现 连接框架 陀螺结构 芯片中心 镂空结构 基底层 传感器 管壳 基底 减小 涂胶 外围 传递
【主权项】:
1.一种SOI基微惯性传感器封装应力隔离方法,所述的传感器包括三层结构:敏感结构层(1)、电隔离层(2)和基底层(3);其特征在于,该封装应力隔离方法通过一种位于基底层(3)上的应力隔离结构实现,所述应力隔离结构形式为:基底层(3)为一镂空结构,其包括外围的用于固定敏感结构层(1)的框架(4)、处于芯片中心的圆柱(6),以及连接框架(4)和圆柱(6)的弹性梁(5);整个SOI基微惯性传感器仅通过所述圆柱(6)的底面(9)涂胶与管壳粘接。
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