[发明专利]一种激光薄膜刻蚀装置及方法有效
申请号: | 201610874943.6 | 申请日: | 2016-09-30 |
公开(公告)号: | CN106271089B | 公开(公告)日: | 2019-01-25 |
发明(设计)人: | 杨焕;张杰;马明鸿;秦国双 | 申请(专利权)人: | 英诺激光科技股份有限公司 |
主分类号: | B23K26/362 | 分类号: | B23K26/362;B23K26/12;B23K26/402;B23K26/064;B23K26/0622 |
代理公司: | 深圳市精英专利事务所 44242 | 代理人: | 冯筠 |
地址: | 518000 广东省深圳市南山区科技*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种激光薄膜刻蚀装置及方法,装置包括:用于发射超快激光的激光器;对激光进行扩束的扩束装置;用于控制光束透过的光阑;驱动激光扫描的振镜,场镜以及工控机;其中,在所述工控机的控制下,所述激光器发射激光,激光依次经过所述扩束装置,振镜以及场镜作用位于加工平台上的表面设有薄膜的工件上,进行薄膜刻蚀。本发明的激光薄膜刻蚀装置及方法,采用真空装置将工件在真空下加工,防止沉渣对后续性能的影响,同时将激光输出为脉冲串模式,防止普通激光高斯分布导致边缘质量差的问题,并且选择合适波长的激光,在实现快速刻蚀的要求下,保护基底不受损伤。 | ||
搜索关键词: | 激光 激光薄膜 刻蚀装置 扩束装置 工控机 场镜 刻蚀 振镜 薄膜 激光器发射激光 脉冲串模式 超快激光 高斯分布 合适波长 激光扫描 加工平台 控制光束 真空装置 激光器 质量差 光阑 扩束 沉渣 损伤 驱动 发射 输出 加工 | ||
【主权项】:
1.一种激光薄膜刻蚀装置,其特征在于,包括:用于发射超快激光的激光器;对激光进行扩束的扩束装置;用于控制光束透过的光阑;驱动激光扫描的振镜,场镜以及工控机;其中,在所述工控机的控制下,所述激光器发射激光,激光依次经过所述扩束装置、光阑、振镜以及场镜作用在位于加工平台上的表面设有薄膜的工件上,进行薄膜刻蚀,其中,所述的加工平台上还设有一真空装置,待加工的工件位于所述真空装置内以使工件形成真空刻蚀环境,所述激光器根据待加工的工件基底与表面薄膜的特性,波长为:对表面薄膜吸收率小于20%,对基底的吸收率大于50%,所述的激光器发射激光的模式为脉冲串,所述的脉冲串模式为:将单个高能量激光脉冲分解为三个及以上的连续脉冲串,所述的振镜为3D振镜。
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