[发明专利]触点的接触构造在审

专利信息
申请号: 201610852596.7 申请日: 2016-09-26
公开(公告)号: CN107181083A 公开(公告)日: 2017-09-19
发明(设计)人: 江尻孝一郎;近藤晴彦;阿部梨恵 申请(专利权)人: SMK株式会社
主分类号: H01R13/03 分类号: H01R13/03;H01R13/04;H01R13/11
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司31100 代理人: 董庆
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种整体不致大型化,并以简单的构成可靠地抑制电弧放电的触点的接触构造。第1触点具备第1分叉片,在插头触点在接离位置与带电连接位置之间进退移动的期间,该第1分叉片的第1接点与第2触点接触,及第2分叉片,该第2分叉片的第2接点在带电连接位置与第2触点接触,在接离位置接触的第1触点的第1接点与第2触点的接触部的至少其中之一的接触面被氧化皮膜包覆。在插头触点与插座触点接离的接离位置,其间隔着作为绝缘物的氧化皮膜,因此可抑制电弧放电。
搜索关键词: 触点 接触 构造
【主权项】:
一种触点的接触构造,它是第1触点与第2触点的一方的插头触点相对于另一方的插座触点沿着进退移动路径朝前后方向进退移动,插头触点在与插座触点接离的接离位置及与其前方的插座触点带电连接的带电连接位置之间,一边与插座触点接触一边进退移动的触点的接触构造,其特征在于:第1触点,具备:基端部;第1分叉片,该第1分叉片一体地连接于基端部,在所述插头触点在接离位置与带电连接位置之间进退移动的期间,第1接点与第2触点接触;及第2分叉片,该第2分叉片一体地连接于基端部,第2接点在带电连接位置与第2触点接触,在接离位置相对的第1触点的第1接点与第2接点的接触部的至少其中之一的接触面被氧化皮膜包覆。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于SMK株式会社,未经SMK株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610852596.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top