[发明专利]一种基于随机采样的非侵入式激光扫描成像方法有效
| 申请号： | 201610834865.7 | 申请日： | 2016-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN106290285B | 公开（公告）日： | 2019-04-16 |
| 发明（设计）人： | 金欣;胡逸夫;戴琼海 | 申请（专利权）人： | 清华大学深圳研究生院 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64 |
| 代理公司： | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人： | 方艳平 |
| 地址： | 518055 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
本发明公开了一种基于随机采样的非侵入式激光扫描成像方法，包括：S1：生成元素仅包含0和1的随机矩阵Φ，其中随机矩阵Φ的尺寸与荧光强度矩阵I以及对应的扫描角度矩阵Θ的尺寸相同；S2：通过激光扫描随机矩阵Φ中值为1的元素对应的扫描角度矩阵Θ上的角度，收集随机矩阵Φ中值为1的元素对应的荧光强度矩阵I上的荧光强度，得到不完整的荧光强度矩阵 |
||
| 搜索关键词： | 一种 基于 随机 采样 侵入 激光 扫描 成像 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于随机采样的非侵入式激光扫描成像方法，其特征在于，包括以下步骤：S1：生成元素仅包含0和1的随机矩阵Φ，其中随机矩阵Φ的尺寸与荧光强度矩阵I以及对应的扫描角度矩阵Θ的尺寸相同；S2：通过激光扫描随机矩阵Φ中值为1的元素对应的扫描角度矩阵Θ上的角度，收集随机矩阵Φ中值为1的元素对应的荧光强度矩阵I上的荧光强度，得到不完整的荧光强度矩阵![]()
其中![]()
符号表示对应元素相乘；S3：通过求解如下低秩约束下的重构模型，以求出完整的荧光强度矩阵I＝U；![]()
![]()
其中，TV为总变差函数，Pk为p×p的矩阵块，w(Pk)为矩阵块Pk对应的权重函数，||·||*为核范数，η为正则参数，Δ为待求矩阵U的所有矩阵块Pk的集合，Ω为采集了的元素的索引的集合；S4：从步骤S3中重构出的完整的荧光强度矩阵中恢复出物体的像。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学深圳研究生院，未经清华大学深圳研究生院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610834865.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
