[发明专利]多肽修饰的低聚原花青素及其制备方法与应用有效
| 申请号： | 201610829362.0 | 申请日： | 2016-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN106518967B | 公开（公告）日： | 2019-08-20 |
| 发明（设计）人： | 李建树;杨潇;张书慧;杨胤鑫 | 申请（专利权）人： | 四川大学 |
| 主分类号： | C07K7/06 | 分类号： | C07K7/06;C07K1/06;A61L27/34;A61L27/54;A61K6/02;A61K6/00 |
| 代理公司： | 成都科海专利事务有限责任公司 51202 | 代理人： | 黄幼陵;郭萍 |
| 地址： | 610065 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种多肽修饰的低聚原花青素及其制备方法，并通过实验证实了所述多肽修饰的低聚原花青素对羟基磷灰石具有牢固的吸附作用，并能在羟基磷灰表面吸附聚集成膜，所述多肽修饰的低聚原花青素能在模拟唾液中诱导羟基磷灰石在磨损牙釉质块表面沉积和结晶，具有促进牙釉质再矿化的能力，将所述多肽修饰的低聚原花青素与三价铁离子配合使用能进一步提升所述多肽修饰的低聚原花青素在模拟唾液中对牙釉质再矿化的能力；所述多肽修饰的低聚原花青素能有效防止细菌在牙釉质上粘附，阻止粘附的细菌在其上繁殖。说明本发明所述多肽修饰的低聚原花青素作为牙釉质原位再矿化诱导剂及牙科植入体表面抗菌材料应用。 | ||
| 搜索关键词： | 多肽 修饰 低聚原 花青素 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.多肽修饰的低聚原花青素，其特征在于结构式如下：![]()
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