[发明专利]一种蛾眼微结构基板的制备方法有效
| 申请号： | 201610829304.8 | 申请日： | 2016-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN106199778B | 公开（公告）日： | 2019-02-26 |
| 发明（设计）人： | 杨勇 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/118 | 分类号： | G02B1/118;G03F7/00 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人： | 孙伟峰 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种蛾眼微结构基板的制备方法，包括如下步骤：步骤一、在基板上涂布一层高分子聚合物溶液，挥发后形成一层聚合物薄膜；在聚合物薄膜上方设置掩膜板，通过紫外光进行一次曝光，并用有机溶剂清洗，在基板上形成一层固化聚合物层；在固化聚合物层上再次涂布一层高分子聚合物溶液，挥发后在固化聚合物层上再形成一层聚合物薄膜；在聚合物薄膜上方设置掩膜板，通过紫外光进行再次曝光，并用有机溶剂清洗，在固化聚合物层上形成若干柱状的凸起结构；重复上述步骤三、步骤四N次，最后凸起结构层叠成具有凸起的微纳米锥体结构的抗反射膜层；步骤六、退火处理，最终得到蛾眼微结构基板。与现有技术相比，降低了生产成本，提高了生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 微结构 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种蛾眼微结构基板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一、在基板(1)上涂布一层高分子聚合物溶液，待涂布的高分子聚合物溶液挥发后在基板上形成一层聚合物薄膜；步骤二、在聚合物薄膜上方设置掩膜板(3)，通过紫外光(6)将聚合物薄膜进行一次曝光产生光固化交联反应，掩膜板(3)具有掩膜孔，并用有机溶剂清洗，洗去未产生光固化交联反应的聚合物薄膜，在基板上形成一层固化聚合物层(2)；步骤三、在固化聚合物层(2)上再次涂布一层高分子聚合物溶液，待涂布的有机溶液挥发后在固化聚合物层(2)上再形成一层聚合物薄膜；步骤四、在聚合物薄膜上方设置掩膜板(3)，通过紫外光(6)将聚合物薄膜进行再次曝光产生光固化交联反应，掩膜板(3)具有掩膜孔，并用有机溶剂清洗，洗去未产生光固化交联反应的聚合物薄膜，在固化聚合物层(2)上形成若干柱状的凸起结构(4)，再次曝光时间为上一次曝光时间乘以60‑80％；步骤五、重复上述步骤三、步骤四N次，使得再次形成柱状的凸起结构的体积小于下一层凸起结构的体积，最后凸起结构层叠成具有凸起的微纳米锥体结构的抗反射膜层(5)；步骤六、将抗反射膜层(5)进行退火处理，最终得到蛾眼微结构基板。
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