[发明专利]校正光谱漂移的方法及装置在审
申请号: | 201610779281.4 | 申请日: | 2016-08-30 |
公开(公告)号: | CN106404173A | 公开(公告)日: | 2017-02-15 |
发明(设计)人: | 陈莉;俞晓峰;夏晓峰;丁海波;李锐;洪波 | 申请(专利权)人: | 聚光科技(杭州)股份有限公司 |
主分类号: | G01J3/28 | 分类号: | G01J3/28;G01J3/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 310052 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明涉及一种校正光谱漂移的方法及装置,所述校正光谱漂移的方法包括以下步骤(A1)校正光源通过校正入缝射入校正光路,得到校正光源信号;(A2)采集校正光源特征谱线的光谱数据,根据波长与位置的关系式(xi,yi)=f(λi)获得特征谱线对应的i个初始坐标,其中i≥1;分别以所述i个初始坐标为中心,从X方向和Y方向寻峰得到实际坐标,进而获得i个偏移量(Δxi,Δyi),通过拟合获得漂移校正系数(δx,δy)=f(Δxi,Δyi,ωi),所述X方向和Y方向相互垂直;(A3)待测光源射入主光路,采集待测光源光谱数据,利用所述漂移校正系数对待测光谱的位置进行校正。本发明具有二维寻峰、实时校正,排除主光路干扰等优点。 | ||
搜索关键词: | 校正 光谱 漂移 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种校正光谱漂移的方法,其特征在于:所述校正光谱漂移的方法包括以下步骤:(A1)校正光源通过校正入缝射入校正光路,得到校正光源信号;(A2)采集校正光源特征谱线的光谱数据,根据波长与位置的关系式(xi,yi)=f(λi)获得特征谱线对应的i个初始坐标,其中i≥1;分别以所述i个初始坐标为中心,从X方向和Y方向寻峰得到实际坐标,进而获得i个偏移量(Δxi,Δyi),通过拟合获得漂移校正系数(δx,δy)=f(Δxi,Δyi,ωi),所述X方向和Y方向相互垂直;(A3)待测光源射入主光路,采集待测光源光谱数据,利用所述漂移校正系数对待测光谱的位置进行校正。
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