[发明专利]一种山药栽培方法在审

专利信息
申请号: 201610768771.4 申请日: 2016-08-31
公开(公告)号: CN106376333A 公开(公告)日: 2017-02-08
发明(设计)人: 赵彩华 申请(专利权)人: 安徽省华丰农产品专业合作社
主分类号: A01G1/00 分类号: A01G1/00;A01G13/00;A01C1/08;A61L2/18;A61L101/42;A61L101/44
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司32243 代理人: 黄智明
地址: 242227 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明涉及一种山药栽培方法,具体步骤是选择土地,对土地进行刨沟,挖排水沟,种苗制备,播种日常管理和收刨、贮藏。本发明有益效果为从种植初始防御病虫害,基肥养料足,保证山药播种后能及时整齐出苗,施肥次数少,产量高,山药品质好。
搜索关键词: 一种 山药 栽培 方法
【主权项】:
一种山药栽培方法,其特征在于,通过以下步骤实现:(1)选择土地:选择选择土层深厚、肥沃且排水性好的沙壤土地块;(2)对土地进行刨沟:山药沟的宽度为20cm‑25cm,沟与沟之间的距离为100cm等行距,沟深度为100cmm‑120cm;将山药沟刨出的土分层捣碎,检除砖头石块后回填,做成低于地表10cm 的沟畦,只留耕层的熟化土,以备栽种时覆土;(3)种苗制备:每年三月中旬,将山药种块按每段20cm的长度分切成段,山药种块的折断面及时用70%超微代森锰锌沾面,然后将种块平摊晾晒30天;(4)播种:用含量为50%的多菌灵800倍液将晾晒好的种块在药液中浸30分钟捞出晾干,将山药沟底趟平,然后向山药沟中灌水,水下渗后,山药沟内用药水A顺山药沟喷雾;将晾晒好的山药种块上端朝同一个方向摆放在山药沟中,株距为20cm,播种密度为3300株/亩,播种后将开沟时置于两侧的土覆上,拍平保墒,然后在山药种块的两侧20cm处施基肥,基肥上覆土5cm;(5)挖排水沟:在山药沟两侧分别挖出与山药沟平行的纵向沟和与纵向沟垂直的横向沟,横向沟和纵向沟纵横交错;(6)日常管理:每隔一月在山药种块两侧喷洒药液D除草,山药出苗后立即搭支架,支架高度为1.5m‑2.5m,每个半个月进行一次中耕,山药茎蔓爬到支架高度一半的位置时停止中耕;在山药开花期和块茎膨大期分别结合施一次肥,山药苗长到50cm和100cm高度时,分别使用药液B和药C喷茎,土壤遇旱轻浇水;(7)收刨和贮藏:山药成熟后,将收刨的山药,冬季贮藏在地窖中,地窖温度为4‑‑7℃。
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