[发明专利]一种低辐射镀膜玻璃及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610653469.4 申请日: 2016-08-11
公开(公告)号: CN106045333B 公开(公告)日: 2018-12-25
发明(设计)人: 时方晓;仝玉莲;高旭 申请(专利权)人: 沈阳建筑大学
主分类号: C03C17/36 分类号: C03C17/36
代理公司: 沈阳东大知识产权代理有限公司 21109 代理人: 赵嬛嬛
地址: 110168 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明提供一种低辐射镀膜玻璃及其制备方法,所述低辐射镀膜玻璃包括玻璃基片及依次溅射于玻璃基片之上的内层介质层、功能层和外层介质层;所述内层介质层和外层介质层均为(Ti,Al)N薄膜,功能层为掺铜银膜,并且在功能层和外层介质层之间还可溅射一层防氧化层。所述制备方法包括:将玻璃基片于氩气和氮气氛围中溅射内层介质层;然后于氩气氛围中在内层介质层上溅射功能层;再于氩气和氮气氛围中在功能层上溅射外层介质层,得到低辐射镀膜玻璃。本发明的低辐射镀膜玻璃的辐射率为0.052~0.054,光透过率为74.4~78.36%,远红外反射率为99.8~99.99%。
搜索关键词: 一种 辐射 镀膜 玻璃 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基片及依次溅射于玻璃基片之上的内层介质层、功能层和外层介质层;其特征在于所述内层介质层和外层介质层均为(Ti,Al)N薄膜,功能层为掺铜银膜;所述内层介质层和所述外层介质层中铝含量分别为0.56~0.76%、0.26~0.46%,膜层厚度分别为200~210nm和140~160nm;所述功能层中银铜的质量配比为2:1,膜层厚度为90~100nm。
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