[发明专利]一种触摸屏铜制程方法及触摸屏在审
| 申请号： | 201610653312.1 | 申请日： | 2016-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN106293230A | 公开（公告）日： | 2017-01-04 |
| 发明（设计）人： | 宋洪波;李均;李学才 | 申请（专利权）人： | 意力（广州）电子科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041;C23F1/02;G03F7/26 |
| 代理公司： | 广州德科知识产权代理有限公司44381 | 代理人： | 万振雄 |
| 地址： | 510663 广东省广州*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种触摸屏铜制程方法，包括以下步骤：S1：提供基材层，在所述基材层上依次形成ITO膜层及金属铜膜层，且所述金属铜膜层包括可视区及非可视区，所述ITO膜层位于所述可视区内；S2：对所述金属铜膜层进行光刻，以得到预设的ITO膜层图案；S3：在所述金属铜膜层的非可视区表面形成保护膜层；S4：对所述可视区内的金属铜膜层进行蚀刻，以去除所述ITO膜层上的金属铜膜层；S5：去除所述金属铜膜层的非可视区表面的保护膜层。本发明提供的触摸屏铜制程方法，通过将金属铜膜层与ITO采用一次成型的方式，替代了采用Ag与ITO进行搭接方式，解决了采用Ag与ITO的搭接精度不高的问题。另，本发明还提供了一种采用上述铜制程方法制备得到的触摸屏。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 触摸屏 铜制 方法 | ||
【主权项】：
一种触摸屏铜制程方法，其特征在于，包括以下步骤：S1：提供基材层，在所述基材层上依次形成ITO膜层及金属铜膜层，且所述金属铜膜层包括可视区及非可视区，所述ITO膜层位于所述可视区内；S2：对所述金属铜膜层进行光刻，以得到预设的ITO膜层图案；S3：在所述金属铜膜层的非可视区表面形成保护膜层；S4：对所述可视区内的金属铜膜层进行蚀刻，以去除所述ITO膜层上的金属铜膜层；S5：去除所述金属铜膜层的非可视区表面的保护膜层。
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