[发明专利]一种用于阻挡层钌的碱性抛光液及其制备方法

摘要

本发明涉及一种用于阻挡层钌的碱性抛光液及其制备方法，所述抛光液由下述组分组成，按重量百分比计硅溶胶1—5％，乙二胺四乙酸四(四羟乙基乙二胺)0.5‑5％，过氧化氢0.5‑4％，非离子界表面活性剂0.1‑10％，去离子水余量；所述碱性抛光液的pH值为9—13；所述抛光液可以使Ru和Cu达到较高的抛光速率，抛光过程中化学作用增强明显，可控性高，可以使Ru和Cu达到良好的速率选择比；在抛光过程中Ru和Cu的电偶腐蚀低，可以有效抑制降低电偶腐蚀；抛光之后表面光滑平坦，全局平坦性高，粗糙度小；污染小，提高器件的可靠性，高pH值条件下仍旧稳定,且后清洗简单。

主权项

1.一种用于阻挡层钌的碱性抛光液，其特征在于：由下述组分组成，按重量百分比计硅溶胶                                5%，乙二胺四乙酸四（四羟乙基乙二胺）        5%，过氧化氢                              4%，O‑20(C12一18H25一37‑C6H4‑O‑CH2CH2O)7‑H)      0.1%，去离子水                              余量；所述碱性抛光液的pH值为9,所述硅溶胶的粒径30nm—90nm，分散度在±5%之间。