[发明专利]一种高线性度可变增益放大器有效

专利信息
申请号: 201610524511.2 申请日: 2016-07-05
公开(公告)号: CN106160684B 公开(公告)日: 2018-12-04
发明(设计)人: 赵毅强;王景帅;赵公元 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: H03F3/45 分类号: H03F3/45;H03G3/30
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 李丽萍
地址: 300072*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明公开了一种高线性度可变增益放大器,包括用以对信号进行放大或衰减的可变增益放大器,可变增益放大器采用闭环负反馈结构,同时还采用产生增益控制电压的指数增益控制电路,从而实现可变增益放大器的增益呈dB线性连续变化;可变增益放大器由全差分运算放大器和两个输入PMOS管和两个反馈PMOS管构成,全差分运算放大器采用两级结构,加入了偏置电路和共模反馈电路,采用了共源共栅补偿技术,以获得足够的相位裕度,保证反馈环路的稳定性。本发明在提高线性度的同时,实现了增益以指数形式连续可调。
搜索关键词: 一种 线性 可变 增益 放大器
【主权项】:
1.一种高线性度可变增益放大器,包括用以对信号进行放大或衰减的可变增益放大器,其特征在于:所述可变增益放大器采用闭环负反馈结构,同时还采用产生增益控制电压的指数增益控制电路,从而实现可变增益放大器的增益呈dB线性连续变化;所述可变增益放大器由全差分运算放大器A和第一PMOS管M1、第二PMOS管M2、第三PMOS管M3和第四PMOS管M4构成,所述第一PMOS管M1和第三PMOS管M3为输入PMOS管,所述第二PMOS管M2和第四PMOS管M4为反馈PMOS管;所述第一PMOS管M1的源端连接至第一输入信号VIP,所述第一PMOS管M1的漏端与所述全差分运算放大器A的正输入端相连;所述第二PMOS管M2的源端连接至第二输入信号VIN,所述第二PMOS管M2的漏端与所述全差分运算放大器A的负输入端相连;所述第三PMOS管M3的漏端与全差分运算放大器A的正输入端相连,所述第三PMOS管M3的源端与全差分运算放大器A的负输出端VON相连;所述第四PMOS M4的漏端与全差分运算放大器A的负输入端相连,所述第四PMOS管M4的源端与全差分运算放大器A的正输出端VOP相连;所述第一PMOS管M1和所述第三PMOS管M3的栅极均与第一增益控制电压VC1相连,第二PMOS管M2和第四PMOS管M4的栅极均与第二增益控制电压VC2相连;所述全差分运算放大器A包括第一级和第二级两级结构及偏置电路和共模反馈电路,其中,第一级为套筒式共源共栅结构,第二级为共源级;所述可变增益放大器中的第一PMOS管M1、第三PMOS管M3、第二PMOS管M2、第四PMOS管M4均工作在线性区,其中,第一PMOS管M1和第二PMOS管M2的等效电阻为Rin:式(1)中,μP为PMOS的空穴迁移率,单位为cm2/V‑s;Cox为单位面积的栅氧化层电容,单位为F/cm2为PMOS的宽长比;VTHP为PMOS的阈值电压,单位为V;第三PMOS管M3和第四PMOS管M4的等效电阻为Rf:式(2)中,μP为PMOS的空穴迁移率,单位为cm2/V‑s;Cox为单位面积的栅氧化层电容,单位为F/cm2为PMOS的宽长比;VTHP为PMOS的阈值电压,单位为V;所述可变增益放大器的增益为A:所述指数增益控制电路用于产生两个所述的第一增益控制电压VC1和第二增益控制电压VC2,所述指数增益控制电路的输入为外部控制信号VC,其中,第一PMOS管M1、第三PMOS管M3的栅极与第一增益控制电压VC1相连,第二PMOS管M2、第四PMOS管M4的栅极与第二增益控制电压VC2相连;所述指数增益控制电路的外部基准电流为I0;所述指数增益控制电路包括17个MOS管和两个电阻,17个MOS管分别记作MOS管M5、MOS管M6、MOS管M7、MOS管M8、MOS管M9、MOS管M10、MOS管M11、MOS管M12、MOS管M13、MOS管M14、MOS管M15、MOS管M16、MOS管M17、MOS管M18、MOS管M19、MOS管M20和MOS管M21,两个电阻为电阻R1和电阻R2;外部控制信号VC与所述MOS管M5和所述MOS管M6的栅极相连;通过电流镜形式,所述MOS管M14和MOS管M15将外部基准电流I0镜像给所述MOS管M11和MOS管M12,则流过所述MOS管M8的电流为所述MOS管M5和MOS管M12的电流之和,然后,通过所述MOS管M10的漏电流镜像给所述MOS管M9,然后,镜像给MOS管M21;同时,所述MOS管M9镜像得到外部基准电流I0与所述MOS管M6的电流之和流过所述MOS管M7,然后,镜像给所述MOS管M20;电阻R1的一端与所述MOS管M20的漏端相连,电阻R1的另一端接地Vss;电阻R2的一端与M21的漏端相连,电阻R2的另一端接地Vss,从而,流经电阻R1的电流IC1和流经电阻R2的电流IC2分别为:式(4)中,μN为NMOS的空穴迁移率,单位为cm2/V‑s;为NMOS的宽长比;VTHN为NMOS的阈值电压,单位V;式(5)中,第一增益控制电压VC1和第二增益控制电压VC2分别为:VC1=IC1·R1    (6)VC2=IC2·R2    (7)令:电阻R1和电阻R2的阻值相等,设KN=KP=K,VTHN=|VTHP|=VTH,VDD=‑VSS,则第一增益控制电压VC1和第二增益控制电压VC2的比值为:
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