[发明专利]工业用密封件以及密封装置在审

专利信息
申请号: 201610474473.4 申请日: 2016-06-24
公开(公告)号: CN106352098A 公开(公告)日: 2017-01-25
发明(设计)人: 青木康弘;石崎洋治;青木坚一朗 申请(专利权)人: 霓达株式会社
主分类号: F16J15/53 分类号: F16J15/53;F16J15/3232;F16J15/3248
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司11021 代理人: 刘婷
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供捕集具有磁性的异物的捕集功能优异的工业用密封件以及具备该工业用密封件的密封装置。工业用密封件(1)具备板状的唇部(2),其一端(2a)与作为被密封部的轴(101)接触;磁铁(3);板状的外侧磁轭(4),其以一端(4a)位于距唇部(2)的一端(2a)为距离D1的位置而另一端(4b)与磁铁(3)的两磁极中的一方接触的状态层叠于唇部(2)的一面(21);以及板状的内侧磁轭(5),其以一端(5a)位于距唇部(2)的一端(2a)为距离D2的位置而另一端(5b)与磁铁3的两磁极中的另一方接触的状态层叠于唇部(2)的另一面(22),距离D1以及距离D2具有D1>D2的关系,密封装置(10)具备该工业用密封件(1)。
搜索关键词: 工业 密封件 以及 密封 装置
【主权项】:
一种工业用密封件,具备:板状的唇部,其一端与被密封部接触;磁铁;板状的外侧磁轭,其以一端位于距所述唇部的一端为距离D1的位置而另一端与所述磁铁的两磁极中的一方接触的状态层叠于所述唇部的一面;以及板状的内侧磁轭,其以一端位于距所述唇部的一端为距离D2的位置而另一端与所述磁铁的两磁极中的另一方接触的状态层叠于所述唇部的另一面,所述距离D1以及所述距离D2具有D1>D2的关系。
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