[发明专利]具有摆动式喷头的二极管清洗装置及清洗方法

摘要

本发明提供一种具有摆动式喷头的二极管清洗装置及清洗方法，装置包括清洗槽、清洗系统、升降板、驱动装置和摆动机构，清洗系统包括供水管和设置于供水管一端的喷头，喷头设置于清洗槽内，升降板沿横向设置于清洗槽内，驱动装置包括驱动升降板升降的气动升降机构和驱动升降板转动的转动机构，所述摆动机构包括设置于清洗槽内的移动部和驱动移动部沿横向做往复式直线运动的驱动部，所述喷头均固定设置于移动部上。以解决现有二极管清洗方式清洗效率低，劳动强度高，需要占用大量的人力成本，且人工清洗常常会有疏漏，造成部分二极管清洗不充分，影响二极管质量等问题。本发明属于二极管清洗领域。

主权项

1.一种具有摆动式喷头的二极管清洗装置，其特征在于：包括清洗槽（1）、清洗系统（2）、升降板（3）、驱动装置（4）和摆动机构（5），清洗系统（2）包括供水管（21）和设置于供水管（21）一端的喷头（22），喷头（22）设置于清洗槽（1）内，升降板（3）沿横向设置于清洗槽（1）内，驱动装置（4）包括驱动升降板（3）升降的气动升降机构（41）和驱动升降板（3）转动的转动机构（42），所述摆动机构（5）包括设置于清洗槽（1）内的移动部（51）和驱动移动部（51）沿横向做往复式直线运动的驱动部（52），所述喷头（22）均固定设置于移动部（51）上。