[发明专利]一种耐日晒牢度高的分散染料组合物及其应用在审
申请号: | 201610451350.9 | 申请日: | 2016-06-20 |
公开(公告)号: | CN106221286A | 公开(公告)日: | 2016-12-14 |
发明(设计)人: | 贾建洪 | 申请(专利权)人: | 浙江工业大学上虞研究院有限公司 |
主分类号: | C09B67/22 | 分类号: | C09B67/22;D06P1/18;D06P3/54 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 | 代理人: | 汤东凤 |
地址: | 312365 浙江省绍兴市上虞*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种耐日晒牢度高的分散染料组合物及其应用,该组合物由结构式(Ⅰ)所示的组分A、结构式(Ⅱ)所示的组分B、结构式(Ⅲ)所示的组分C、结构式(Ⅳ)所示的组分D以及助剂组成。本发明中在组分A重氮组分重氮基的邻位引入氰基,在其偶合组分氨基的间位引入羟基;在组分B重氮组分重氮基的邻位引入‑N(CH3)2;这些引入基团均是吸电子基团,能够大大提高各单体染料的色牢度尤其是耐日晒牢度,且本发明染料组合物的色牢度尤其是耐日晒牢度比各单体染料更优,表明各单体染料之间可能存在一定的协同作用;同时本发明染料组合物具有优良的提升力,上色率高;不会产生含氯有害物质,环保性能优异。 | ||
搜索关键词: | 一种 日晒牢度 分散染料 组合 及其 应用 | ||
【主权项】:
一种耐日晒牢度高的分散染料组合物,其特征在于,包括结构式(Ⅰ)所示的组分A、结构式(Ⅱ)所示的组分B、结构式(Ⅲ)所示的组分C以及结构式(Ⅳ)所示的组分D:其中,R1为H或‑CH2CH2OCH2CH2CN;按质量分数计,所述组分A的质量分数为12~25%,所述组分B的质量分数为5~12%,所述组分C的质量分数为8~18%,所述组分D的质量分数为5~12%。
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