[发明专利]一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池光电吸收转换层的制备方法有效
申请号: | 201610410939.4 | 申请日: | 2016-06-04 |
公开(公告)号: | CN105810764B | 公开(公告)日: | 2017-07-07 |
发明(设计)人: | 陈良范;孙嵩泉;甄永泰 | 申请(专利权)人: | 安徽恒致铜铟镓硒技术有限公司 |
主分类号: | H01L31/032 | 分类号: | H01L31/032;H01L31/18;C23C14/24;C23C14/34 |
代理公司: | 蚌埠鼎力专利商标事务所有限公司34102 | 代理人: | 张建宏 |
地址: | 233000 安徽省蚌埠市经*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池光电吸收转换层的制备方法,其基本步骤按顺序依次为1)用物理真空溅射沉积薄膜的方法沉积一层铜镓合金薄膜。2)将上述铜镓薄膜在真空蒸发镀膜的硒蒸汽环境中硒化处理。3)在硒化处理后的薄膜上用真空共蒸发法沉积铟和硒元素。4)最后用真空蒸发法在上述薄膜之上沉积少量的镓以调节铜铟镓硒薄膜太阳能电池光电吸收转换层的电学性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 铜铟镓硒 薄膜 太阳能电池 光电 吸收 转换 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池光电吸收转换层的制备方法,其特征在于具有以下步骤:a)、用真空溅射的方法在衬底上溅射一层0.2~2.5μm厚的铜镓合金薄膜;b)、将溅射了铜镓合金薄膜的衬底放置于500~600℃的富含硒蒸汽的环境中对铜镓合金薄膜进行硒化处理;c)、将硒化处理后的衬底放置在设有铟蒸发源和硒蒸发源的共蒸发真空腔室内,500~600℃下将铟和硒蒸发沉积到铜镓合金薄膜之上,形成铜铟镓硒化合物半导体薄膜;d)、将衬底以及其上的铜铟镓硒化合物半导体薄膜放置入设置有镓蒸发源的真空蒸发腔室内,在铜铟镓硒化合物半导体薄膜上沉积厚度为5~50纳米的镓。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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