[发明专利]一种研磨装置在审

专利信息
申请号: 201610404581.4 申请日: 2016-06-08
公开(公告)号: CN106041689A 公开(公告)日: 2016-10-26
发明(设计)人: 李锦坤;林斌;刘书雨;刘敏;张爱红;赵业开;徐建建 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: B24B21/12 分类号: B24B21/12;B24B21/18;B24B21/20
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及显示技术领域,公开一种研磨装置,包括基台,基台上设有面板承载面,还包括支架、固定在支架上的转轮组件以及包覆在转轮组件上且在转轮组件动作时可相对于基台上的面板运动的研磨带,其中:支架沿平行于面板承载面的方向可移动地安装于基台;研磨带上与面板相对的部分与面板平行;转轮组件的转动中心轴相平行、且与支架的移动方向相平行;支架沿平行于面板承载面的方向移动,转轮组件带动研磨带相对面板运动,杂质从面板转移到研磨带上,并随研磨带一起运动以清洁面板,由于研磨带能够与整个面板相接触,减少了研磨盲区,而研磨带能够相对于面板移动使得总有洁净的研磨带与面板相接触,以获得较好的清洗效果,使得产品良率较高。
搜索关键词: 一种 研磨 装置
【主权项】:
一种研磨装置,包括基台,所述基台上设有面板承载面,其特征在于,还包括支架、固定在所述支架上的转轮组件以及包覆在所述转轮组件上且在所述转轮组件动作时可相对于所述基台上的面板运动的研磨带,其中:所述支架沿平行于所述面板承载面的方向可移动地安装于所述基台;所述研磨带上与所述面板相对的部分与所述面板平行;所述转轮组件的转动中心轴相平行、且与所述支架的移动方向相平行。
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