[发明专利]基于富勒烯材料的纳米碳化硅微晶须复合材料及制备方法及衍生材料在审

专利信息
申请号: 201610402851.8 申请日: 2016-06-08
公开(公告)号: CN106084296A 公开(公告)日: 2016-11-09
发明(设计)人: 查尔斯罗伯特克莱恩;成民主;孙梁;杨劲松 申请(专利权)人: 浙江克莱恩纳米材料股份有限公司
主分类号: C08K13/06 分类号: C08K13/06;C08K9/02;C08K3/04;C08K3/34;C08K3/22;C08L101/00;C08L15/00;C08L75/04;C09D7/12;C09D201/00
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 汤东凤
地址: 314001 浙江省嘉兴市秀洲区*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及基于富勒烯材料的纳米碳化硅微晶须复合材料,包括0.01~25wt%的富勒烯材料、0.01~98.5wt%碳化硅斜方微晶须、0.01~98.5wt%刻蚀复合材料及余量表面经过Na2SiF6处理的高岭土;其中,所述C60、碳化硅斜方微晶须、刻蚀复合材料及高岭土相混合;所述碳化硅斜方微晶须处于物理上的分离状态;所述刻蚀复合材料包括0.01~99.99wt%表面经过湿法刻蚀处理的碳化硅和0.01~99.99wt%表面经过湿法刻蚀处理的氧化铝。
搜索关键词: 基于 富勒烯 材料 纳米 碳化硅 微晶须 复合材料 制备 方法 衍生
【主权项】:
基于富勒烯材料的纳米碳化硅微晶须复合材料,其特征在于:包括0.01~25wt%的富勒烯材料、0.01~98.5wt%碳化硅斜方微晶须、0.01~98.5wt%刻蚀复合材料及余量表面经过Na2SiF6处理的高岭土;其中,所述富勒烯材料、碳化硅斜方微晶须、刻蚀复合材料及高岭土相混合;所述碳化硅斜方微晶须处于物理上的分离状态;所述刻蚀复合材料包括0.01~99.99wt%表面经过湿法刻蚀处理的碳化硅和0.01~99.99wt%表面经过湿法刻蚀处理的氧化铝。所述碳化硅斜方微晶须的长度为200nm–1000nm。
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