[发明专利]测量方法、测量装置和光学元件的制造方法在审
| 申请号： | 201610384440.0 | 申请日： | 2016-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN106226032A | 公开（公告）日： | 2016-12-14 |
| 发明（设计）人： | 杉本智洋 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人： | 张劲松 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了测量方法、测量装置和光学元件的制造方法。将测试对象放在介质内，并且在多个波长处测量透过所述测试对象的光的波前。从在所述多个波长处测量的测试对象的透射波前和将具有特定的群折射率分布的基准对象放在所述介质中时多个波长处的透射波前，计算对应于所述测试对象的透射波前与基准对象的透射波前之间的差的波前像差相对于波长的变化率。基于波前像差相对于波长的变化率计算所述测试对象的折射率分布。 | ||
| 搜索关键词： | 测量方法 测量 装置 光学 元件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种测量方法，其特征在于，包括：测量步骤，该测量步骤将测试对象放在介质中并测量透过所述测试对象的多个波长的光的波前；和计算步骤，该计算步骤从在所述多个波长处测量的测试对象的透射波前以及从透过放在所述介质中的具有特定的群折射率分布的基准对象的所述多个波长的光的波前来计算波前像差相对于波长的变化率，并且基于波前像差相对于波长的变化率来计算所述测试对象的折射率分布，所述波前像差对应于所述测试对象的透射波前与基准对象的透射波前之间的差。
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