[发明专利]一种真空炉

摘要

本发明公开了一种真空炉，包括真空腔室，其底部设置凹槽型水冷套，凹槽型水冷套的凹槽底部有放置工件的载物台，所述凹槽型水冷套的凹槽侧壁和凹槽底部依次排列的加热组件对该工件进行加热；所述凹槽型水冷套用于冷却所述加热组件；为了冷却工件，在凹槽内还设置有环绕工件的环形制冷部件，其上设置有多个排气孔。本发明通过所述第一气体冷却装置经由所述管道向所述环形制冷部件通入第一冷却气体，并通过所述排气孔排出以冷却所述工件，由于输入到工件处的气体是冷却后的气体，因此比直接输出氮气的冷却时间短，冷却效率要高。

主权项

一种真空炉，其特征在于，包括：真空腔室，所述真空腔室的一外壁上开设有腔门；凹槽型水冷套，位于所述真空腔室底部，所述凹槽型水冷套的凹槽开口对应所述腔门；所述凹槽型水冷套的凹槽内壁和凹槽底部依次排列有加热组件，以对工件进行加热；所述凹槽型水冷套用于冷却所述加热组件；载物台，位于所述凹槽型水冷套的凹槽底部，所述载物台上放置所述工件，使得所述工件处于所述凹槽型水冷套的凹槽空间内；环形制冷部件，位于所述凹槽型水冷套中的凹槽空间内，且所述环形制冷部件环绕所述工件；所述环形制冷部件上设置有多个排气孔；所述环形制冷部件和第一气体冷却装置通过管道连接，通过所述第一气体冷却装置经由所述管道向所述环形制冷部件通入第一冷却气体，并通过所述排气孔排出以冷却所述工件。