[发明专利]防尘薄膜组件以及其安装方法有效
| 申请号： | 201610323191.4 | 申请日： | 2016-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN106168735B | 公开（公告）日： | 2020-01-03 |
| 发明（设计）人： | 关原一敏 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/64 | 分类号： | G03F1/64;G03F1/62 |
| 代理公司： | 11280 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王勇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的为提供一种防尘薄膜组件，即使离焦距离小，防尘薄膜组件框架的刚性低，也可容易地处理，从防尘薄膜组件收纳容器安全取出，从而可以无缺陷地向光掩模等贴附的防尘薄膜组件以及其安装方法。本发明的防尘薄膜组件，在防尘薄膜组件框架11的防尘薄膜接着层侧设置可装可卸的防尘薄膜组件支持装置20的同时，离焦距离/外尺寸对角长的值为0.0001～0.003。再者，防尘薄膜组件支持装置20，由平板状或者框状的支持体16构成，通过在支持体16被设置的微粘着性物质，在防尘薄膜组件框架11的防尘薄膜接着层侧可装可卸地设置。 | ||
| 搜索关键词： | 防尘 薄膜 组件 及其 安装 方法 | ||
【主权项】：
1.一种防尘薄膜组件，其特征在于，剖面为矩形的防尘薄膜组件框架的防尘薄膜接着层侧设置有可装可卸的防尘薄膜组件支持装置，离焦距离/外尺寸对角长的值为0.0001～0.003，所述防尘薄膜组件支持装置由平板状或者框状的支持体、在该支持体上设置的微粘着性物质和把持部构成。/n
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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