[发明专利]异质结太阳能电池及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610316392.1 申请日: 2016-05-12
公开(公告)号: CN105932080B 公开(公告)日: 2017-08-04
发明(设计)人: 杨黎飞;张闻斌;王琪;李杏兵 申请(专利权)人: 苏州协鑫集成科技工业应用研究院有限公司;协鑫集成科技(苏州)有限公司;协鑫集成科技股份有限公司
主分类号: H01L31/032 分类号: H01L31/032;H01L31/074;H01L31/18
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司44224 代理人: 胡亚兰
地址: 215000 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及太阳能电池领域,具体公开了一种异质结太阳能电池,其包括晶体硅片,依次位于晶体硅片的一侧上的第一选择层、第一透明导电层、及第一电极,以及位于另一侧的第二电极;晶体硅片为N型,第一选择层为空穴选择性接触层,其功函数≥5.3eV;或,晶体硅片为P型,第一选择层为电子选择性接触层,其功函数≤3.9eV。上述异质结太阳能电池,由于采用第一选择层在晶体硅片近表面形成PN结,代替非晶硅‑晶体硅异质结结构,从而取消了非晶硅,因此也避免了非晶硅造成的缺陷。另外,满足第一选择层的材料众多,选择多。本发明还公开了一种电池的制备方法。
搜索关键词: 异质结 太阳能电池 及其 制备 方法
【主权项】:
一种异质结太阳能电池,其特征在于,包括:晶体硅片,依次位于所述晶体硅片的一侧上的第一选择层、第一透明导电层、及第一电极,以及依次位于所述晶体硅片的另一侧上的第二选择层、及第二电极;其中,所述晶体硅片为N型晶体硅片,所述第一选择层为空穴选择性接触层,所述第一选择层的功函数大于等于5.3eV;所述第二选择层为电子选择性接触层;或,所述晶体硅片为P型晶体硅片,所述第一选择层为电子选择性接触层,所述第一选择层的功函数小于等于3.9eV;所述第二选择层为空穴选择性接触层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州协鑫集成科技工业应用研究院有限公司;协鑫集成科技(苏州)有限公司;协鑫集成科技股份有限公司,未经苏州协鑫集成科技工业应用研究院有限公司;协鑫集成科技(苏州)有限公司;协鑫集成科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610316392.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top