[发明专利]一种一维无机高分子及其通用制备方法有效
| 申请号： | 201610315617.1 | 申请日： | 2016-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN106006575B | 公开（公告）日： | 2017-11-14 |
| 发明（设计）人： | 唐江;周英;罗家俊;宋怀兵 | 申请（专利权）人： | 武汉光电工业技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | C01B19/04 | 分类号： | C01B19/04;C01B19/00;C01G29/00;C01G30/00 |
| 代理公司： | 武汉帅丞知识产权代理有限公司42220 | 代理人： | 朱必武 |
| 地址： | 430075 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及一维无机高分子及其通用制备方法，属于无机高分子材料制备技术领域。本发明利用具有一维晶体结构的无机化合物为原料和液氮在超声、粉碎处理过程中实现了无机化合物的离子插层，在超声环境下，使液氮进入无机化合物分子链间隙气化，体积膨胀对分子链产生支撑力，实现无机化合物的进一步剥离，制得本发明的目标产物，即本发明的一维无机高分子。本发明首次创造性地制备出了具有最小重复单元A4B6结构的无机高分子化合物，为一维无机高分子的制备开辟了新途径，另外，本发明方法未采用任何表面活性剂，制备得到的一维无机高分子产物十分纯净，而且本发明方法方便简单、成本低，可操作性强，易于工业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 无机 高分子 及其 通用 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种一维无机高分子，其特征在于：所述的一维无机高分子，由具有A4B6结构的最小重复单元组成，其中：A为Sb或Bi或二者的组合，B为O或S或Se中的任一种或S与Se的组合。
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