[发明专利]用于EMV测量测试的测试室有效
| 申请号： | 201610308747.2 | 申请日： | 2016-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN105911393B | 公开（公告）日： | 2020-11-06 |
| 发明（设计）人： | 沃尔夫冈·奥皮茨 | 申请（专利权）人： | 沃尔夫冈·奥皮茨 |
| 主分类号： | G01R31/00 | 分类号： | G01R31/00;G01R35/00 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 邓斐 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于EMV测量测试的测试室以及一种用于校验的方法和一种用于在这样的测试室中实施EMV测量测试的方法.为了使校验EMV测量测试室以及在唯一一个测试室中实施不同的EMV测量测试方法变得简单，提出一种用于EMV测量测试的测试室，该测试室构造用于通过提供具有不同测量轴线的多个测量布置结构实施不同的EMV测量测试方法，在该测试室中同时设置多个天线，每个所述天线分别配设给所述测量测试方法中的至少一种测量测试方法，并且为了提供用于相应测量测试方法的测量布置结构，每个所述天线从静止位置可运动到配设给该测量布置结构的测量位置中并且返回。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 emv 测量 测试 | ||
【主权项】：
一种用于EMV测量测试的测试室(1)，该测试室构造用于通过提供具有不同测量轴线(16、17、18)的多个测量布置结构(13、14、15)实施不同的EMV测量测试方法，其中，在该测试室(1)中同时设置多个天线(31、32、33、34)，每个所述天线(31、32、33、34)分别配设给所述测量测试方法中的至少一种测量测试方法，并且为了提供用于相应测量测试方法的测量布置结构(13、14、15)，每个所述天线(31、32、33、34)从静止位置(41、42、43、44)可运动到配设给该测量布置结构(13、14、15)的测量位置(24、25、26、27、28)中并且返回。
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