[发明专利]一种电子产品制造及冶金过程中含铊废水的深度处理方法

摘要

本发明公开了一种电子产品制造及冶金过程中含铊废水的深度处理方法。本发明方法用于处理初始含铊量为1.6mg/L以下的废水，具体步骤如下：1）、向电子产品制造及冶金过程产生的含铊废水中投加生物制剂，反应15~30min后静置；2）、投加化学混凝沉淀剂，过程中用碱调节pH10~12，反应15~30min后过滤；3）、向步骤2）所得滤液中加入混凝吸附剂，搅拌反应15~30min后过滤，即可得到达标排放的含铊废水。本发明方法也可同步处理含铊废水中含有的其它重金属离子。本发明可在现有设施上改造进行，可节约大量投资成本，工艺简单，运行稳定，工业化应用前景广阔。

主权项

一种电子产品制造及冶金过程中含铊废水的深度处理方法，其特征在于，该方法用于处理初始含铊量为1.6mg/L以下的废水，具体步骤如下：（1）生物制剂预处理：向电子产品制造及冶金过程产生的含铊废水中投加生物制剂，反应15~30min后静置，得到混合溶液；其中，所述生物制剂通过如下步骤制备得到：① 配制9K液体培养基，按5Vol%~10Vol%的接种量接入嗜酸氧化亚铁硫杆菌，于25~35℃，125~130r/min条件下，摇床培养4~6d；② 按固液质量体积比为1：4~1：6 g/ml向菌液中加入FeSO₄·7H₂O或Fe₂(SO₄)₃，搅拌后静置，直接获得悬浮液型制剂，或者进一步加工得到固体制剂；（2）化学混凝沉淀剂处理：向步骤（1）得到的混合溶液中投加化学混凝沉淀剂，过程中用碱调节体系pH值在10~12之间，反应15~30min后过滤；（3）混凝吸附处理：向步骤（2）所得滤液中加入混凝吸附剂，搅拌15~30min后过滤，得到含铊量在0.005mg/L以下的出水。