[发明专利]一种共溅射法制备CIGS薄膜太阳能电池吸收层的方法有效
申请号: | 201610270066.1 | 申请日: | 2016-04-27 |
公开(公告)号: | CN105870255B | 公开(公告)日: | 2017-04-05 |
发明(设计)人: | 杜祖亮;程轲;黄玉茜 | 申请(专利权)人: | 河南大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 郑州联科专利事务所(普通合伙)41104 | 代理人: | 时立新,周闯 |
地址: | 475001*** | 国省代码: | 河南;41 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明属于一种共溅射法制备CIGS薄膜太阳能电池吸收层的方法,包括以下步骤①提供基底,采用铜铟镓硒靶进行射频溅射,同时采用铟靶进行直流溅射,共溅射制备得到铜铟镓硒预制层;②将铜铟镓硒预制层放入快速退火炉中,氮气保护下分两次硒化,自然冷却至室温,即可得到CIGS薄膜太阳能电池吸收层。本发明采用CIGS标准四元靶进行溅射的技术途径有利于规模工业化生产,通过本发明可有效地解决标准CIGS四元靶在溅射过程中造成的铟元素的损失,可得到符合化学计量比的CIGS吸收层材料。通过两步升温法对所制备的CIGS吸收层进行退火处理,可进一步增强其硒化的完全度和结晶性,可得到表面均匀、厚度一致的高质量CIGS。 | ||
搜索关键词: | 一种 溅射 法制 cigs 薄膜 太阳能电池 吸收 方法 | ||
【主权项】:
一种共溅射法制备CIGS薄膜太阳能电池吸收层的方法,其特征在于,包括以下步骤:①提供基底,采用铜铟镓硒靶进行射频溅射,同时采用铟靶进行直流溅射,共溅射制备得到铜铟镓硒预制层;共溅射的工艺条件为:本体真空度达到7~8×10‑4Pa以下,工作压强为0.5~0.6 Pa,共溅射时间为110‑120 min,铜铟镓硒靶的射频溅射功率为110 W,铟靶直流溅射的功率为70 W;②将铜铟镓硒预制层放入快速退火炉中,80~90s内升温至245~255℃,然后采用固态硒源在245~255℃下硒化20~30 min,然后在20~30s内升温至545~500℃,在545~500℃下二次硒化15~20 min,自然冷却至室温,即可得到CIGS薄膜太阳能电池吸收层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的