[发明专利]一种基于最优相似度的指纹定位方法及装置有效
| 申请号： | 201610264145.1 | 申请日： | 2016-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN107318084B | 公开（公告）日： | 2021-01-26 |
| 发明（设计）人： | 向平叶;陈诗军;叶小仁 | 申请（专利权）人： | 中兴通讯股份有限公司 |
| 主分类号： | H04W4/02 | 分类号： | H04W4/02;H04W4/021;H04W4/33;G01S5/02 |
| 代理公司： | 北京元本知识产权代理事务所(普通合伙) 11308 | 代理人： | 秦力军 |
| 地址： | 518057 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了基于最优相似度的指纹定位方法及装置，涉及移动定位技术领域，所述方法包括：将待定位点的信号特征和位置指纹数据库中位置指纹参考点的信号特征进行欧式距离匹配处理和相似度匹配处理，确定与所述待定位点距离最近的多个最优相似度位置指纹参考点；利用所确定的多个最优相似度位置指纹参考点，计算所述待定位点的位置坐标。通过计算待定位点的信号特征与位置指纹数据库中位置指纹参考点的信号特征的欧氏距离和相似度，确定与待定位点最优相似的位置指纹参考点，消除了匹配结果的多样性误差，提高了定位精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 最优 相似 指纹 定位 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种基于最优相似度的指纹定位方法，包括：将待定位点的信号特征和位置指纹数据库中位置指纹参考点的信号特征进行欧式距离匹配处理和相似度匹配处理，确定与所述待定位点距离最近的多个最优相似度位置指纹参考点；利用所确定的多个最优相似度位置指纹参考点，计算所述待定位点的位置坐标。
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