[发明专利]电光学装置以及电子设备在审

专利信息
申请号: 201610188348.7 申请日: 2016-03-29
公开(公告)号: CN106019739A 公开(公告)日: 2016-10-12
发明(设计)人: 杉本阳平 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;G02F1/13
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 舒艳君;李洋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种能够提高显示品质的电光学装置以及电子设备。该电光学装置具有:第一基材(10a)、设置在第一基材(10a)上的层间绝缘层(45)、以及设置于层间绝缘层(45)的槽(16’),在槽(16’)的内部形成有按下部电极(16a)、下部电介质膜(16b)、中部电极(16c)、上部电介质膜(16d)、上部电极(16e)的顺序依次层叠而形成的多个电容(第一电容元件(161)、第二电容元件(162))。
搜索关键词: 光学 装置 以及 电子设备
【主权项】:
一种电光学装置,其特征在于,具备:基板;绝缘层,其被设置在所述基板上;以及槽,其被设置于所述绝缘层,在所述槽的内部形成有按第一电极、第一绝缘膜、第二电极、第二绝缘膜、第三电极的顺序依次层叠而形成的多个电容。
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