[发明专利]一种采用光谱椭偏仪对金属膜进行检测的方法有效
| 申请号： | 201610051591.4 | 申请日： | 2016-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN105674899B | 公开（公告）日： | 2019-03-19 |
| 发明（设计）人： | 田毅;张先锋;闫兰琴;宋志伟;褚卫国 | 申请（专利权）人： | 国家纳米科学中心 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06;G01N21/21 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 巩克栋;侯潇潇 |
| 地址： | 100190 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种采用光谱椭偏仪对金属膜进行检测的方法，所述方法包括以下步骤：制备非吸收介质‑Si衬底膜系；用光谱椭偏仪对非吸收介质‑Si衬底膜系进行测量和拟合；用相同的方法在非吸收介质‑Si衬底膜系和玻璃衬底上分别制备厚度相同的金属膜，得到金属‑非吸收介质‑Si衬底膜系和金属‑玻璃膜系；用光谱椭偏仪对金属‑非吸收介质‑Si衬底膜系进行测量和分段拟合，得到所需数据。本发明极大的提高了超厚金属膜检测的精度和灵敏度，扩大了可测金属膜的厚度范围。本发明测量方法简单方便，测量结果稳定可靠，适用范围广泛。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 采用 光谱 椭偏仪 金属膜 进行 检测 方法 | ||
【主权项】：
1.一种采用光谱椭偏仪对金属膜进行检测的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：(1)制备非吸收介质‑Si衬底膜系；(2)用光谱椭偏仪对非吸收介质‑Si衬底膜系进行测量和拟合；(3)用相同的方法在非吸收介质‑Si衬底膜系和玻璃衬底上分别制备厚度相同的金属膜，得到金属‑非吸收介质‑Si衬底膜系和金属‑玻璃膜系；(4)用光谱椭偏仪对金属‑非吸收介质‑Si衬底膜系进行测量和分段拟合，得到所需数据；所述步骤(2)用光谱椭偏仪对非吸收介质‑Si衬底膜系进行拟合为：建立光谱椭偏仪的非吸收介质‑Si衬底膜系模型，将用光谱椭偏仪测定出的非吸收介质‑Si衬底膜系的椭偏参数实验值与非吸收介质‑Si衬底膜系模型给出的理论值进行拟合，得到非吸收介质‑Si衬底膜系中非吸收介质层的厚度及光学常数，并将得到的厚度及光学常数作为后续建模时非吸收介质层的已知参数；所述步骤(4)中用光谱椭偏仪对金属‑非吸收介质‑Si衬底膜系进行分段拟合为：在步骤(2)中用光谱椭偏仪对非吸收介质‑Si衬底膜系进行测量和拟合过程中建立的非吸收介质‑Si衬底膜系模型中添加金属层数据建立金属‑非吸收介质‑Si衬底膜系模型，将用光谱椭偏仪测定出的金属‑非吸收介质‑Si衬底膜系的椭偏参数实验值与金属‑非吸收介质‑Si衬底膜系模型给出的理论值进行分段拟合，得到金属‑非吸收介质‑Si衬底膜系中金属膜的厚度及光学常数。
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