[发明专利]一种光学直角反射镜及其制造方法有效
| 申请号： | 201610038072.4 | 申请日： | 2016-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN106986299B | 公开（公告）日： | 2021-03-09 |
| 发明（设计）人： | 吴亚明;翟雷应;徐静 | 申请（专利权）人： | 安徽中科米微电子技术有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;B81B7/02 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 233010 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本申请提供一种光学直角反射镜及其制造方法，该方法用于在单晶硅基片上制造光学直角反射镜，该方法包括：在基片的表面形成蚀刻掩模，所述蚀刻掩模具有使所述基片的表面露出的开口，所述基片是单晶硅片；对形成有蚀刻掩模的所述基片进行湿法腐蚀，以形成刻槽，所述刻槽至少具有相互垂直的两侧壁，两个所述侧壁是硅(110)晶面，并且两个所述侧壁与所述基片表面夹角为45°；以及在所述刻槽的两个所述侧壁覆盖光反射层，以在所述刻槽中形成直角反射镜。根据本申请的方法制造直角反射镜，其光学质量好、精度高、体积小、成本低，并且可以方便制造阵列式的多槽直角反射镜，从而获得较大面积的直角反射镜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 直角 反射 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光学直角反射镜的制造方法，用于在单晶硅基片上制造光学直角反射镜，其特征在于，该方法包括：在基片表面形成蚀刻掩模，所述蚀刻掩模具有使所述基片表面露出的开口，所述基片是单晶硅片；对形成有蚀刻掩模的所述基片进行湿法腐蚀，以形成刻槽，所述刻槽至少具有相互垂直的两个侧壁，两个所述侧壁为硅(110)晶面，并且两个所述侧壁与所述基片的表面夹角为45°；以及在所述刻槽的两个所述侧壁覆盖光反射层，以在所述刻槽中形成直角反射镜。
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