[发明专利]通过场发射自加热诱导纳米结构改善结晶性的方法和装置在审

专利信息
申请号: 201610028921.8 申请日: 2016-01-15
公开(公告)号: CN105668513A 公开(公告)日: 2016-06-15
发明(设计)人: 邓少芝;沈岩;许宁生;陈军;佘峻聪 申请(专利权)人: 中山大学
主分类号: B82B3/00 分类号: B82B3/00;B82Y40/00
代理公司: 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 代理人: 华辉;林玉芳
地址: 510275 *** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种通过场发射自加热诱导纳米结构改善结晶性的方法,其采用场发射电流产生焦耳热原位加热纳米结构材料,通过场发射电流产生过程实现纳米结构材料温度迅速升高,并促使多晶态纳米结构在微观尺度下进行重结晶,改善纳米结构材料的结晶性。本发明技术实现方法简单,不需要提供外部热能就可以对金属、半导体等纳米结构的结晶性进行改善,而材料结构结晶性的改善,能够改善材料电学、场发射等物理特性。本发明进一步提供实现上述方面的场发射装置。
搜索关键词: 通过 发射 加热 诱导 纳米 结构 改善 结晶 方法 装置
【主权项】:
一种通过场发射自加热诱导纳米结构改善结晶性的方法,其特征在于:采用场发射电流产生焦耳热原位加热纳米结构材料,通过场发射电流产生过程实现纳米结构材料温度迅速升高,其通过以下步骤实现:(1)设置由阴极和阳极构成的场发射结构;(2)将纳米结构材料设于步骤(1)所述场发射结构的阴极位置;(3)将电极安装在步骤(1)所述场发射结构的阳极位置;(4)将安装上述纳米结构材料以及电极的场发射结构设于真空度大于1×10‑3Pa的真空环境中;(5)调节阴极与阳极之间的距离,并对设于真空环境中的场发射结构的阴极及阳极间施加0.01V~500V的电压,使纳米结构材料产生发射电流;(6)持续施加电压,使发射电流升高以使纳米结构材料升温,当温度达到一定温度时,纳米结构的多晶态区域发生重结晶,纳米结构的结晶性发生不同程度的改善。
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