[发明专利]防尘薄膜组件收纳容器在审
| 申请号： | 201610022706.7 | 申请日： | 2016-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN105807560A | 公开（公告）日： | 2016-07-27 |
| 发明（设计）人： | 関原一敏 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/66 | 分类号： | G03F1/66 |
| 代理公司： | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人： | 胡强 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种在运送未使用分离片的防尘薄膜组件时掩模粘着层不发生损伤等的防尘薄膜组件收纳容器。本发明的防尘薄膜组件收纳容器是包括收纳未使用保护掩模粘着层(22)的分离片的矩形防尘薄膜组件的防尘薄膜组件(20)收纳容器本体、嵌合于所述防尘薄膜组件收纳容器本体(20)中的密闭的盖体(17)的防尘薄膜组件收纳容器，其特点是，在上述防尘薄膜组件收纳容器本体(11)上设置外侧高起的阶梯状防尘薄膜组件框架支承装置(12)，防尘薄膜组件框架的掩模粘着层未涂布区域(23)支承在阶梯状防尘薄膜组件框架支承装置(12)的低阶梯部上。 | ||
| 搜索关键词： | 防尘 薄膜 组件 收纳 容器 | ||
【主权项】：
一种防尘薄膜组件收纳容器，包括收纳不使用保护掩模粘着层的分离片的矩形的防尘薄膜组件的防尘薄膜组件收纳容器本体、嵌合于所述防尘薄膜组件收纳容器本体中的密闭的盖体，其特征在于，在所述防尘薄膜组件收纳容器本体上设置在外侧呈高起的阶梯状防尘薄膜组件框架支承装置，防尘薄膜组件框架的掩模粘着层未涂布区域支承在所述阶梯状防尘薄膜组件框架支承装置的低阶梯部上。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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