[发明专利]具有弯曲焦面或目标基准元件和场补偿器的共焦成像设备

摘要

一种共焦成像设备，包括产生光束阵列的照明模块。聚焦光学器件将光束阵列共焦聚焦到非平坦焦面上，并且将光束阵列导向待成像的三维对象。平移机构调整至少一个透镜的位置，以使非平坦焦面沿着成像轴移位。检测器测量返回光束阵列的强度，该返回光束从三维对象反射，并且通过聚焦光学器件被导回。对于至少一个透镜的位置测量返回光束阵列的强度，用以确定三维对象的点在成像轴上的位置。调整一个以上的点的检测到的位置以补偿非平坦焦面。

主权项

一种共焦成像设备，包括：照明模块，该照明模块产生光束阵列；聚焦光学器件，该聚焦光学器件包括沿着所述光束阵列的光路设置的多个透镜，所述聚焦光学器件将所述光束阵列共焦聚焦到非平坦焦面上，并且将所述光束阵列引导至待成像的三维对象；平移机构，该平移机构调整所述多个透镜中的至少一个透镜的位置，以使所述非平坦焦面沿着由所述光路定义的成像轴移位；以及检测器，该检测器测量返回光束阵列的强度，该返回光束阵列从所述三维对象反射，并且通过所述聚焦光学器件被导回，其中，针对所述至少一个透镜的多个位置测量所述返回光束阵列的强度，以确定所述三维对象的多个点在所述成像轴上的位置，其中，所述多个点中的一个以上点的检测到的位置待被调整，以补偿所述非平坦焦面。